TMAH 替代品
亨斯迈季铵
亨斯迈制造具有一系列结构的低痕量金属级季铵,用于半导体配方清洁、刻蚀或去胶应用。亨斯迈季铵兼有低腐蚀速率和易于处理的特点;可提供在水溶液或非水溶液中,浓度都高于TMAH的产品。
- 应用领域
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- • 光刻胶显影剂和去胶
- • 刻蚀和清除
- • 光伏制绒
- • 化学机械平坦化处理后清理
- 优点
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- • 低痕量金属,高纯度
- • 有高达 45% 的浓度供选择
- • 有水溶液和非水溶液供选择
E-GRADE® THEMAH SLM
E-GRADE® THEMAH 是三(羟乙基)甲基氢氧化铵的水溶液。这是一款澄清透明高 pH 值的液体,气味柔和并且热稳定性好。该产品主要用于半导体、显示器和 PCB 行业的去胶和清洗 配方中。
E-GRADE® Choline OH
E-GRADE® Choline OH 是氢氧化胆碱的水溶液。这是一种透明的浅色至琥珀色高 pH 值液体,气味柔和。现在已发现,E-GRADE® Choline OH 对铜和其他金属表面的腐蚀速率非常低,并为用户提供先进的硅刻蚀性能。
试验性产品
亨斯迈丰富的胺类系列产品为客户提供了独特的机会,以便创制具有独特性质的定制结构,如表面相互作用、溶解度参数、水或非水溶液。亨斯迈员工与客户密切合作,进行开发和测试新产品。请联系
AdTech@huntsman.com 获取更多信息。
亨斯迈先进技术中心
2005年,亨斯迈在休斯敦以北约35英里的得克萨斯州伍德兰兹市,设立了亨斯迈先进技术中心(HATC)。这座22万平方英尺的研发基地是全球四大研发基地之一,也是美洲的主要研发中心。亨斯迈于 2020 年完成了最先进洁净室的安装,以开发新的净化技术并生产极低痕量金属胺类。
亨斯迈广泛的胺类和季铵盐加上经验丰富的净化能力,使客户有机会配制出各种的电子级胺类。通过提供净化单个原材料或(含有多种无法提供电子级纯度的成分)预混合物的能力,这项服务可以快速建立原型并放大新配方的规模。
- • 小量纯化工艺和试样
- • 具有极低痕量金属的产品
- • 具有极低痕量金属的产品



